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疑惑不解-惠州无尘净化车间工程的温湿度如何控制【东鑫净化】

文章出处 : http://protook.com/ 作者 : 东鑫净化 人气 : 17 发表时间:

怎样控制惠州无尘净化车间工程的温湿度,你真的了解吗?净化车间工程的主要功能是提供一个健康的生活和生产环境,创造一个满足照明、温度、湿度、噪音、空气流量、压力、静态和卫生指标如微振动环境,使相关的服务和产品,以满足人们的健康需求的环境,提供一个良好的空间,环境控制,从而有效地提高产品的合格率,改善和提高服务质量的相关目标。 

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惠州净化车间工程的温湿度主要根据工艺要求确定,但在满足工艺要求的条件下,要考虑人的舒适性。随着空气清洁度要求的提高,对温度和湿度的要求越来越严格。随着加工精度的提高,对温度波动范围的要求会越来越小。例如,在大规模集成电路产生的光刻曝光过程中,玻璃与硅片作为掩模材料的热膨胀系数差要求越来越小。直径100um的硅片,温度上升1度,就引起了0.24um线性膨胀,所以必须有±0.1度的恒温,同时要求湿度值较低,因为人出汗以后,对产品可能有污染,特别是钠的半导体车间,这种车间不应超过25度。

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高湿度会导致更多的问题。当相对湿度超过55%时,冷却水管壁暴露。如果它发生在精密设备或电路中,就会引起各种事故。相对湿度往往在50%生锈。此外,当湿度很高时,附着在硅片表面的灰尘会被空气中的水分子化学地附着在表面,这是很难去除的。相对湿度、粘结力越高,则越难去除,但当相对湿度低于30%时,又由于静电颗粒对表面吸附的影响,还容易对大量半导体器件产生击穿。硅片生产的最佳温度范围是35 - 45%。



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